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天能 Tanon 化學發(fā)光成像系統(tǒng)T5200是專業(yè)的化學發(fā)光圖像分析系統(tǒng)，可對ECL發(fā)光等直接成像，獲得實驗結果。以往我們主要使用暗室曝光來進行ECL檢測，但是建造暗室浪費空間，在暗室中曝光步驟繁瑣，沖洗X膠片時會接觸到有毒的化學試劑?，F(xiàn)在使用發(fā)光成像系統(tǒng)進行ECl成像已經(jīng)逐漸取代傳統(tǒng)的暗室曝光檢測。
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吉艾姆-60°C制冷設備超低溫冷阱JM50-Plus的冷阱腔體采用304不銹鋼拉伸一體成型工藝，Teflon 高溫噴涂工藝。冷阱腔體采用304不銹鋼拉伸一體成型工藝，Teflon高溫噴涂工藝。溫度可達-60℃ ，可提高真空濃縮系統(tǒng)的效率，濃縮過程加快。
-50°C低溫冷阱JM50制冷設備 采用新型溶劑回收裝置，體積小巧，寬度只有21cm，只需要占用很小的實驗臺空間?；厥招矢?，直接懸掛在溶劑蒸汽氣路中的冷凝線圈將蒸汽直接冷凝成液體進入回收瓶，制冷速度快，噪音小。
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